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非连续电铸中镍层表面氧化膜的形成与酸蚀

发布时间:2018-07-11 17:05

  本文选题:电铸镍 + 氧化膜 ; 参考:《中国有色金属学报》2017年03期


【摘要】:研究电铸镍层的微观结构和表面氧化膜的形成、硫酸酸蚀去除氧化膜的过程及其对非连续电铸后镍层结合致密度的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)对电铸镍层的微观结构进行表征,利用能谱仪(EDS)和高精度电子天平研究镍层表面氧元素含量,采用扫描电镜观测二次电铸后镍层间结合致密度。结果表明:电铸镍层具有明显的(100)晶面择优取向,120 min后,镍层表面基本氧化完全;氧化膜随着硫酸酸蚀时间的增加而不断损失,10%质量分数的硫酸酸蚀60 min可以除去氧化完全的镍层表面的氧化膜,非连续电铸所得双层镍层之间结合致密。
[Abstract]:The microstructure of electroforming nickel layer and the formation of surface oxide film were studied. The process of removing oxide film by sulfuric acid etching and its effect on the bonding density of nickel layer after discontinuous electroforming were studied. The microstructure of electroformed nickel layer was characterized by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM). The surface oxygen content of nickel layer was studied by energy dispersive spectroscopy (EDS) and high precision electron balance. The interlaminar bonding densities of nickel after secondary electroforming were observed by scanning electron microscope (SEM). The results show that the surface of the electroformed nickel layer is completely oxidized after the preferred orientation of (100) crystal plane is 120 min. With the increase of sulfuric acid etching time, the oxide film can be removed from the surface of the completely oxidized nickel layer with the loss of 10% mass fraction of sulfuric acid for 60 min, and the bindings between the double nickel layers obtained by discontinuous electroforming are dense.
【作者单位】: 吉林大学材料科学与工程学院教育部汽车材料重点实验室;吉林科尔物流涂装设备有限公司;
【基金】:吉林省科技厅科技发展计划资助项目(20150301002G X) 长春市科技计划项目(15SS15)~~
【分类号】:TQ153.43

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本文编号:2115975

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