长链烷基硅氧烷的合成及其对古琉璃瓦的保护研究
【图文】:
,3,4,5-OCCH2,NCCH2),1.46(6H,m,3,4,5-OC2CH2),1.24(57H,m,3,4,5-OC3C8H16,SiO(CCH3)3),0.89(9H,t,3,4,5-OC11CH3),0.70(2H,t,SiCH2)。合成产物红外光谱主要特征峰的归属如下FT-IR(KBr,cm-1):2924(C—H);1632(C=O);1497(N—H)。合成产物的元素分析:calcdforC52H99NO7Si,C,71.10;H,11.36;N,1.59;foundC,,71.00;H,11.60;N,1.26。综合1H-NMR、FT-IR和元素分析数据,可见目标产物M结构明确,与设计分子结构一致。图1M的氢核磁图谱Fig.11H-NMRspectraofM图2M的红外图谱Fig.2IRspectraofM2.2保护效果评估对M处理前后琉璃样品的物理化学性能进行了测试,结果见表1。可以看出:M处理后琉璃瓦的吸水率从11.6%下降到5.62%,接触角从24.78上升到102.6,说明保护后的琉璃瓦具有明显的憎水性。处理前后琉璃瓦的色差值ΔE*为959
3,4,5-OC2CH2),1.24(57H,m,3,4,5-OC3C8H16,SiO(CCH3)3),0.89(9H,t,3,4,5-OC11CH3),0.70(2H,t,SiCH2)。合成产物红外光谱主要特征峰的归属如下FT-IR(KBr,cm-1):2924(C—H);1632(C=O);1497(N—H)。合成产物的元素分析:calcdforC52H99NO7Si,C,71.10;H,11.36;N,1.59;foundC,71.00;H,11.60;N,1.26。综合1H-NMR、FT-IR和元素分析数据,可见目标产物M结构明确,与设计分子结构一致。图1M的氢核磁图谱Fig.11H-NMRspectraofM图2M的红外图谱Fig.2IRspectraofM2.2保护效果评估对M处理前后琉璃样品的物理化学性能进行了测试,结果见表1。可以看出:M处理后琉璃瓦的吸水率从11.6%下降到5.62%,接触角从24.78上升到102.6,说明保护后的琉璃瓦具有明显的憎水性。处理前后琉璃瓦的色差值ΔE*为959
【作者单位】: 上海出版印刷高等专科学校印刷包装工程系;中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室;
【基金】:上海市教育委员会上海市教育发展基金会的晨光计划项目(14CGB15)资助
【分类号】:TQ174.767;TQ630.1
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