高纯超细氧化镁的制备工艺

发布时间：2017-08-07 06:06

  本文关键词：高纯超细氧化镁的制备工艺

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【摘要】：以MgCl_2·6H_2O为原料,PVA与CTAB为添加剂,采用氨水直接沉淀制备氢氧化镁前驱体,再经煅烧得到高纯超细氧化镁。研究了温度、镁离子浓度、添加剂用量、原料配比和煅烧温度对氧化镁粒度的影响。确定最佳工艺条件为:反应温度40℃,Mg2+浓度1mol/L,PVA用量0.6%(质量分数),CTAB的用量1.2%(质量分数),n(NH_3·H_2O)∶n(MgCl_2·6H_2O)=3.3∶1,煅烧温度600℃,煅烧时间3h。荧光光谱分析表明,氧化镁纯度达到了99.9%以上;激光粒度和SEM结果显示,粒子分散性较好,平均粒径为190nm,粒度分布呈正态分布。
【作者单位】： 中南大学冶金与环境学院;
【关键词】： 超细 氧化镁 沉淀
【基金】：国家自然科学基金(51574286) 中央专项中南大学前沿研究计划重点项目(2010QZZD003)
【分类号】：TQ132.2
【正文快照】： 0引言高纯超细氧化镁外观为白色无定形粉末,具有良好的电绝缘性、耐高温性,光透过率高,优良的抗菌性能,广泛应用于绝缘材料、电子器件、高级陶瓷、催化剂和应用医药等领域[1-4]。在陶瓷领域,高纯超细氧化镁除了可以在较低温度下(1500℃左右)烧结制成高致密、光透过性好的细晶

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1 王路明;石灰卤水法制备高纯超细氧化镁[J];海湖盐与化工;2003年06期

2 王路明;石灰卤水法制备超细氧化镁的研究[J];海湖盐与化工;2001年01期

3 ;[J];;年期

，

本文编号：633097