三氧化二铬薄膜的制备及应用研究进展
发布时间:2017-10-09 07:47
本文关键词:三氧化二铬薄膜的制备及应用研究进展
【摘要】:三氧化二铬(Cr_2O_3)薄膜具有高熔点、高硬度、低摩擦系数和耐磨损等优点,是应用非常广泛的一种薄膜材料。介绍了Cr_2O_3薄膜常用的制备方法,包括化学气相沉积法、蒸发诱导组装法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法、分子束外延法等,并进行了比较分析。阐述了Cr_2O_3薄膜在扩散阻挡层、耐磨损保护层、薄膜电阻器件、金属材料保护层、电子开关材料、电极材料、气敏材料等方面的应用。对Cr_2O_3薄膜的制备方法及应用进行了展望。
【作者单位】: 国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室;
【关键词】: 薄膜 三氧化二铬 制备 应用
【基金】:国家自然科学基金(51502344)
【分类号】:TQ136.11;TB383.2
【正文快照】: 三氧化二铬(Cr2O3)作为铬最为稳定的氧化物,由于具有优良的力学、物理与化学性能而受到广泛的研究。着重介绍几种制备Cr2O3薄膜的方法和Cr2O3薄膜近期的应用研究进展。1 Cr2O3薄膜的制备方法1.1化学气相沉积法1.1.1脉冲喷雾蒸发化学气相沉积(PSE-CVD)PSE-CVD法采用脉冲进样和
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,本文编号:998998
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