表面修饰层状结构半导体光催化还原空气中关键组分的研究
【学位单位】:华中师范大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:O643.3;O644.1
【部分图文】:
2006?2007?KNM?2009?2010?2011?20U?2019?2014?301S?201t??图1.1?(a)光能太阳能的主要利用形式(b)?2006-20]6年太阳能容量变化??1.1.1半导体光催化的基本原理??
催化技术的规模化的应用16】。??2006?2007?KNM?2009?2010?2011?20U?2019?2014?301S?201t??图1.1?(a)光能太阳能的主要利用形式(b)?2006-20]6年太阳能容量变化??1.1.1半导体光催化的基本原理??半导体结构中包含被电子填充的价带顶和电子未填充的导带底,两者之前由禁??带隔开,二者之间的能量相对差值就被定义为我们通常所说的带隙能。那么对于一??1??
地应用于光催化领域,并逐渐替代传统Ti02光催化剂成为了新的研宄热点。??1.2.1二硫化钼半导体基本结构与性质??TMDCs是具有MX2型的半导体,M代表过渡金属(如Mo、W等),X代表??硫族元素(如S、Se、Te)。TMDCs的研宄历史非常悠久,1923年Linus?Pauling??就确定了其结构,到1960s己经发现了超过60种TMDCs。M0S2和WS2可能是自??然界中仅存的层状晶体TMDCs以M0S2为代表的2D过渡金属硫化物(TMDCs)??由于具有特殊的能带结构、半导体或超导性质以及优秀的机械性能等,在纳米电子??器件和光电子学等诸多领域具有广阔的应用前景@]-[21]。??二硫化钼(M〇S2)是一种带有金属光泽的黑色粉末,作为一种代表性层状的??过渡金属硫化物,其独特的三明治结构和高比表面积,高化学稳定性和对可见光的??强吸收等特性也成功的吸引了光催化研宄者们的目光。MoS2有IT、2H、3R三??种晶体结构,其中1T-MoS2和3R-MoS2处于亚稳态,常态下能稳定存在的是??2H-M〇S2[22]。它的禁带宽度随其厚度变化可调,它层内通过牢固的Mo-S化学键相??连,而c轴方向层之间则通过作用力较弱的范德华力结合,因此层与层间很容易剥??离[23]-[24]〇??
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本文编号:2850093
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