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Ta-N化合物的电输运性质研究

发布时间:2020-11-04 14:28
   TaN材料具有十分优越的物理、化学和机械性能。因其硬度高、耐磨性好、化学惰性、高温热稳定性、电阻率低,在耐磨涂层、薄膜电阻和扩散势垒等领域得到了广泛应用。因其具有超导特性和较高的载流子浓度,可在实验中观察到超导-绝缘体转变,超导涨落和反常金属相等输运现象,这些现象是凝聚态物理研究的热点。首先,本文研究了六角结构TaN块体(ε-TaN)的微观结构和电输运性质。实验发现,ε-TaN的室温电阻率很低(10~(-5)?cm),甚至可以与金属材料相媲美。电输运的测量结果表明其电阻温度系数低,具有金属导电特性,而当测量温度从6 K降到1 K时,其电阻率迅速下降了40%。同时,磁性测量的结果表明ε-TaN具有完全抗磁性,说明ε-TaN具有超导特性。此外,在973 K的高温下退火之后,其物相、结构、晶粒尺寸和电输运性质基本不变。其次,本文研究了岩盐结构TaN_x薄膜(rs-TaN_x)的微观结构和电输运性质。利用射频磁控溅射仪,选择ε-TaN靶,分别在石英玻璃和Al_2O_3(001)单晶基底上制备了TaN样品,对其晶体结构、微观结构和电输运性质进行研究。对于在石英玻璃基底上制备的不同氮含量的多晶TaN_x薄膜来说,我们研究了其在2-300 K温度区间内的电输运性质。实验结果表明,在6-30 K的温度区间内,其电导率与温度的对数呈线性关系,起源于颗粒与颗粒之间的电子-电子相互作用。而在温度高于60 K时,热涨落诱导的隧穿(FIT)导电机制主导了电阻率随温度的变化行为。当x?1.04时,TaN_x薄膜在低温处发生了正常态-超导态的转变,且9 T的磁场仍没有完全破坏超导。在超导转变温度附近,其上临界磁场随温度的降低线性增加,与颗粒超导体和无序的第二类超导体的性质类似。根据其电输运性质和透射电镜获得的微观结构,可知TaN_x薄膜具有类“导体-绝缘体”颗粒系统的属性,在TaN_x晶粒之间存在着非晶区域。对于单晶Al_2O_3(001)基底上制备的TaN_x薄膜,电输运测量结果表明,TaN_x薄膜具有半导体的导电特性,且低温处不会出现超导,这可能与界面处的应力有关。当测量温度高于50 K时,FIT导电机制主导了电阻率随温度变化的行为。因此,Al_2O_3(001)基底上制备的TaN_x薄膜具有类“导体-绝缘体”颗粒系统的电输运性质。
【学位单位】:天津大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:O614.513
【部分图文】:

微观形貌,结构示意图


图 1-1 (a) Ta2N;(b) -TaN;(c) Ta5N6的结构示意图;(d) Ta5N6的结构示意图[22]TaN 材料的性质 TaN 的高温热稳定性TaN 材料具有很好的高温热稳定性,它可以作为器件关键结构的保护层被于磁电阻随机存储器,金属-氧化物-半导体器件的栅电极,薄膜晶体管等。例如在硅基集成电路中,将 Cu 线的表面镀一层 TaN,当温度达到 700TaN 的物相结构和微观形貌并没有明显的变化[24,25];Kwon 等人[13]制备/HfO2/SiO2/Si 的高介电常数栅堆叠,并在沉积 TaNx薄膜之后对器件进行理,实验发现当退火温度升高到 700-800 ℃时才开始出现 Ta-O 化学键

吸收光谱,退火温度,吸收光谱,导率


图 1-2 不同退火温度下 HfO2/TaN 的吸收光谱[13]ayeli等人[12]对50-100 nm厚的TaN薄膜的热导率 (TaN ) 进ann-Franz-Lorenz 定律和最小热导率理论,TaN 可表示为: 1'TaN ,min1 1 13p e fed C vd 子比热容,fv 是费米波矢,e 是电子的平均自由程。计算热导率1 1~ 4.0 4.3 Wm K 。之后对薄膜进行皮秒热反应 700 K 的条件下退火之后,薄膜的热导率基本保持不变,具有热稳定性。的高硬度

纳米压痕,基底温度,基底,耐磨涂层


天津大学硕士学位论文Pa[27]。因此,TaN 材料具有高硬度,是制备耐磨涂层的良好材料过第一性原理计算得到六角结构的 Ta2N (P63/mmc-TaN) 具有 T构,这种结构使得 Ta-N 之间产生极强的化合键,从而使 P63/mm量达到 336 GPa,剪切模量达到 214 GPa,成为硬度最高的 TaN 材于轮船、航空航天、石油开采等领域。
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