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PCB孔金属化中离子钯还原过程机理分析

发布时间:2021-07-11 00:07
  文章对化学沉铜中离子钯还原成原子钯的机理进行了详细分析,并根据机理分析,对该过程的管控提出了一些建议。 

【文章来源】:印制电路信息. 2020,28(11)

【文章页数】:3 页

【部分图文】:

PCB孔金属化中离子钯还原过程机理分析


基本流程图

硼烷,原子,电子对,吸附态


Pd[L]2+层上正电荷所吸引的是B:H的共用电子对,造成硼烷的三个电子对和三个H,均偏移向Pd[L]2+层上,使硼烷中心的硼原子裸露并显示出明显正电性,此时的硼原子在水的作用下,极易与水发生还原,而彻底失掉三个,转移于Pd[L]2+层上,形成Pd[L]2+…3H-,硼原子自身还原成硼酸,这个过程所产生的吸附态H-是整个反应的关键中间产物,具体反应原理如图5所示。(4)电子转移。

反应式,硼烷,甲胺,游离态


反应式图


本文编号:3276924

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