高氧化程度氧化石墨烯的制备及性能

发布时间：2021-07-13 13:22

　　为制备氧化程度更高的氧化石墨烯（GO）,试验在Hummers法的基础上进行改进,然后运用FT-IR、SEM、XRD、Raman spectra、纳米粒度分析等手段进行性能表征,探究两种方法制备的氧化石墨烯在结构、组成等方面的异同。结果显示,与Hummers法相比,改良Hummers法制备的氧化石墨烯有更多的含氧官能团和更好的水溶性,结构不规整性增大,晶面间距从石墨的0.334 nm增大到0.858 nm,优于Hummers法的0.72 nm,粒度分布更为集中。 

【文章来源】：印染. 2020,46(02)北大核心

【文章页数】：5 页

【部分图文】：

石墨、氧化石墨烯1#、氧化石墨烯2#的水溶性

石墨和氧化石墨烯扫描电镜图

图3 石墨和氧化石墨烯扫描电镜图图3(a）中石墨片层表面平滑，呈现片层堆积成块的状态；图3(b）、（c）的GO表面凸起成三维状态，褶皱增多。这也可以说明含氧官能团已成功插层到石墨片层中间，导致层间距增大。此外，图3(c）表面褶皱、交叠的状态更明显，这是因为Hummers改良法制得的GO含氧官能团多、缺陷多、结构不规整。GO制备过程中，由于制备方法的不同导致氧化程度不同，石墨片层插层的距离也会有所不同，氧化程度越高，层间距越大，越有利于GO在溶液中均匀分散和形成单层石墨烯，故Hummmers改良法制备的GO氧化更彻底，效果更好。

【参考文献】：
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本文编号：3282141