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高密度单壁碳纳米管的可控制备

发布时间:2021-10-28 09:11
  单壁碳纳米管(semiconducting single-walled carbon nanotubes,SWNTs)具有完美的共轭结构和优异的物理化学性能,是后摩尔时代最有可能替代硅纳米材料的候选者之一。本文针对SWNTs阵列的制备,合成了高密度SWNTs阵列,提出了一种面对面生长SWNTs阵列的方法和思路。 

【文章来源】:化工技术与开发. 2020,49(06)

【文章页数】:5 页

【部分图文】:

高密度单壁碳纳米管的可控制备


SWNTs的SEM图

AFM图,单壁碳纳米管,阵列,基底


图2是高密度单壁碳纳米管阵列的原子力显微镜图(AFM)。从图2(a)、图2(b)可以看出,生长出的单壁碳纳米管表面干净,其生长的基底表面也比较干净。其中图2(a)是Al2O3基底上没有储存催化剂生长出的阵列型单壁碳纳米管,可以看出其密度约为3~5根·μm-1;图2(b)是Al2O3基底上储存催化剂生长出的阵列型单壁碳纳米管,可以看出其密度约为20~25根·μm-1,再次证明利用面对面的生长方法,的确可以提高单壁碳纳米管的生长密度。图3是高密度单壁碳纳米管的拉曼光谱图。从图3(a)中可以清晰地看出,单壁碳纳米管的峰位为100cm-1~250cm-1的RBM峰的存在,证明所制备的碳纳米管是单壁单壁碳纳米管。从图3(b)可以清晰地看出单壁碳纳米管的G峰。拉曼光谱中D峰的缺失,进一步证明生长出的单壁碳纳米管是干净无缺陷的。

谱图,拉曼,谱图,电流


图4是利用高密度单壁碳纳米管制作的FET(场效应晶体管)图。其中,图4(a)是制作的FET的扫描电子显微镜图,沟道长度为3μm;图4(b)是该FET器件在不同栅压下的输出曲线;图4(c)是该FET器件的转移特性曲线。保持源漏电压不变,通过调节栅极电压,可以得到源漏电流与栅极电压变化的曲线,称为转移曲线。该条曲线上的最大电流称为开电流ION,最小电流称为关电流IOFF,开电流与关电流的比值ION/IOFF称为开关比。一般认为开关比<10的为金属管,开关比>10的为半导体管。图4 高密度SWNTs的电学性能


本文编号:3462600

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