钴离子表面印迹聚合物的制备及其吸附性能研究

发布时间：2017-07-07 13:22

  本文关键词：钴离子表面印迹聚合物的制备及其吸附性能研究

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【摘要】：以钴离子为模板离子,硅胶为基底,(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷为功能单体,环氧氯丙烷为交联剂,采用表面印迹技术制备并表征了钴离子印迹聚合物[Co(Ⅱ)-IIP],研究了其对钴离子的吸附性能。结果表明,在25℃、pH=5~6时平衡吸附时间为1h,最大吸附量为20.05mg/g。Co(Ⅱ)-IIP对Co(Ⅱ)/Cd(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Pb(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Cu(Ⅱ)、Co(Ⅱ)/Ni(Ⅱ)吸附选择性系数分别为2.52、1.34、3.61、4.39。经5次吸附-解吸循环后,Co(Ⅱ)-IIP对钴离子的吸附效果并没有明显下降,表明该材料具有一定的循环利用性能。
【作者单位】： 青海大学化工学院;
【关键词】： 离子印迹聚合物 表面印迹技术 钴离子 吸附性能
【基金】：国家自然科学基金(21266027)
【分类号】：O631.3;O647.3
【正文快照】： 微量元素钴(Co)是维生素B12的重要组成部分,人体内不能直接合成这种元素,必须从牛奶、蛋类、水果、蔬菜等食物中获取[1]。Co的缺乏会导致贫血症、老年痴呆症等症状,但是经常注射Co或暴露于过量的Co环境中,会引起Co中毒[2-3]。因此,准确检测环境和生物样品中痕量的Co元素是十分

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本文编号：530383