氧化铈颗粒在磁流变抛光液中的聚集-分散行为研究

发布时间：2017-09-15 13:16

  本文关键词：氧化铈颗粒在磁流变抛光液中的聚集-分散行为研究

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【摘要】：磁流变抛光液中双相颗粒的聚集分散行为关系到其流变性能及微观去除过程,本文通过对磁流变抛光液流变性能和微观结构的研究,分析了不同粒径的氧化铈抛光粉在抛光液中的聚集分散行为。实验表明,在相同工艺条件下,加入了不同粒径氧化铈抛光粉的磁流变抛光液的剪切屈服应力和零场粘度最大差距可达12倍与8倍。分析认为,粒径越小的氧化铈颗粒对磁流变抛光液的影响越明显:氧化铈粒径小,颗粒易团聚而增大粘度,同时也减小了抛光液中颗粒平均粒径和间距,增大了剪切作用。
【作者单位】： 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
【关键词】： 磁流变抛光液 氧化铈 微观结构 流变性能
【基金】：国家重大科技专项(2013ZX04006011) 中物院超精密加工技术重点实验室基金项目(K859-13-JCZ)
【分类号】：O614.332;O648.22
【正文快照】： 磁流变抛光(magneto-rheological finishing,MRF)是一种新兴的光学制造技术,其工作原理是通过磁流变抛光液在磁场作用下的液-固态转变形成具有粘塑性的Bingham介质,并以剪切方式对光学元件进行确定性抛光[1~3]。作为与工件直接接触产生去除作用的工作介质,磁流变抛光液的状态

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本文编号：856751