激光照明下黑硅表面的散射偏振特性研究

发布时间：2017-09-17 17:28

  本文关键词：激光照明下黑硅表面的散射偏振特性研究

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【摘要】：为了研究人工微结构材料表面的偏振特性,利用波长为532nm的激光器、精密旋转台和弱光照度计,自行搭建表面散射特性的测量系统。以黑硅为被测样品,测量样品不同姿态时对散射光偏振特性的影响,并对比分析随入射光入射角、样品方位角及俯仰角对散射光偏振分布的影响。实验结果表明,散射光的偏振度与表面微结构的周期性,以及入射角度有关。本文的研究对散射光的偏振特征应用在探测的分析领域上提供一定的实验基础。
【作者单位】： 长春理工大学理学院;
【关键词】： 散射 偏 振 人工微结构材料
【分类号】：O613.72;TN249
【正文快照】： 传统的方法是采用双向反射分布函数来表征材质的散射空间分布,然而通过研究发现[1],面对一些具有周期性结构的材质,偏振特性的差异往往更能反映出材质的散射特性。实际上,黑硅[2]作为一种新兴的人工微结构材料,大部分研究还仅存在于黑硅的制备以及基础的物理特性研究方面,如吸

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本文编号：870742