酸性镀铜添加剂对电沉积循环伏安曲线成核环的影响

发布时间：2017-10-11 02:36

  本文关键词：酸性镀铜添加剂对电沉积循环伏安曲线成核环的影响

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【摘要】：金属电沉积的循环伏安(CV)曲线上的成核环可以用于分析添加剂对电沉积的影响及其作用机理。以常用的3种酸性镀铜添加剂为例,探讨了不同添加剂下成核环的形成特点,并从其成核环的位置以及构成成核环的电流曲线来探讨添加剂对铜沉积的影响及其机理。结果表明:当成核环分别位于不加添加剂的阴极电位和阳极电位方向时,添加剂对金属电沉积分别具有阻化和促进作用;阴极扫描方向电流密度Jb和回扫的阳极电流密度Ja是CV曲线成核环的两个特征参数,添加剂作用下的Ja和Jb与不加添加剂的接近,表明添加剂通过吸附-脱附机理影响金属的沉积,反之表明添加剂在电极表面参与化学反应。
【作者单位】： 重庆大学资源及环境科学学院煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室;
【关键词】： 成核环 添加剂 循环伏安曲线 铜 电沉积
【基金】：CMDDC国家重点实验室自主项目(2011DA105287-ZD201202) 重庆市科技计划项目(cstc2013jcyjys90001)资助
【分类号】：TQ153.14
【正文快照】： 0前言近年来,镀铜在纳米材料科学(如封装和磁记录的纳米多层膜)及半导体微电子工业(如IC中的铜互连线超等角填充技术)中发挥了非常重要的作用。铜的电沉积,特别是在异相基底上的金属电沉积,一般都经过电结晶过程。电结晶过程是电沉积的初始阶段,包括金属的成核和核的生长过程

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本文编号：1010056