一种简单的化学气相沉积法制备大尺寸单层二硫化钼

发布时间：2017-10-17 01:42

  本文关键词：一种简单的化学气相沉积法制备大尺寸单层二硫化钼

  更多相关文章： 单层二硫化钼 化学气相沉积 拉曼光谱 光致发光谱

【摘要】：最近单层二硫化钼以其直接带隙的性质及在电子器件、催化、光电等领域中的潜在应用而备受关注.化学气相沉积法能够制备出高质量、大尺寸且性能优良的单层二硫化钼,但其制备工艺比较复杂.本文采用简化的化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备出了大尺寸的单晶二硫化钼.清洗衬底时,只需要简单的清洁,不需要用丙酮、食人鱼溶液(H_2SO_4/H_2O_2=3:1)等处理,这样既减少了操作步骤,又避免了潜在的危险.升温时直接从室温加热到生长的温度,不必分段升温,并且采用常压化学气相沉积法,不需要抽真空等过程,使得实验可以快捷方便地进行.光学显微镜、拉曼光谱和光致发光谱的结果表明,生长的二硫化钼为规则的三角形单层,边长为50μm左右,远大于机械剥离的样品.
【作者单位】： 北京交通大学发光与光信息技术教育部重点实验室;北京交通大学光电子技术研究所;
【关键词】： 单层二硫化钼 化学气相沉积 拉曼光谱 光致发光谱
【基金】：国家自然科学基金(批准号:61335006,61527817,61378073) 北京市科学技术委员会(批准号:Z151100003315006)资助的课题~~
【分类号】：TQ136.12
【正文快照】： 1引言石墨烯是典型的二维材料,因其具有超薄、超坚固和超强导电性能等特性而受到了全世界科学家的广泛关注.但其零带隙的特点,使其在逻辑电路中的应用受到限制.为了弥补石墨烯的不足,人们将目光转移到其他具有二维层状晶体结构特征的无机化合物,其中二硫化钼(Mo S2)是一种典型

【相似文献】

中国期刊全文数据库 前10条

1 国华;;在化学气相沉积石榴石膜时生成物相的控制[J];磁性材料及器件;1973年01期

2 王忠恕;化学气相沉积在机械工业中的应用[J];热加工工艺;1983年02期

3 沈启贤;欧洲第五届化学气相沉积会议在瑞典召开[J];兵器材料科学与工程;1985年12期

4 张长鑫;化学气相沉积制取钨[J];稀有金属;1987年03期

5 张长鑫;;化学气相沉积制取钨制品[J];新技术新工艺;1987年05期

6 马捷;张好东;毕安园;王从曾;周美玲;;化学气相沉积法制取异型钨制品研究[J];兵工学报;2006年02期

7 卢翠英;成来飞;张立同;徐永东;赵春年;;化学气相沉积碳化硅的热力学分析[J];无机材料学报;2008年06期

8 韩同宝;;化学气相沉积设备与装置[J];化学工程与装备;2011年03期

9 ;浅谈化学气相沉积新工艺[J];机械工人技术资料;1975年07期

10 H.E.Hintermann;曾宪国;;耐磨和耐腐蚀的化学气相沉积层的应用[J];国外化学热处理;1982年06期

中国重要会议论文全文数据库 前10条

1 庞世红;马眷荣;马振珠;;在线化学气相沉积过程的动力学研究[A];2007中国浮法玻璃及玻璃新技术发展研讨会论文集[C];2007年

2 王君;陈长琦;朱武;刘珍;陈明;;氮化硅化学气相沉积过程的量子化学研究[A];中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议论文摘要集[C];2004年

3 张蔷;张晓林;张帆;奚中和;;化学气相沉积法的沉积速率对硅烷浓度的依赖[A];中国电子学会真空电子学分会第十一届学术年会论文集[C];1997年

4 浦鸿汀;孙霞容;;化学气相沉积聚合制备聚乙酰基对苯撑二甲基及其性能的研究[A];第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ[C];2004年

5 杨艳;;化学气相沉积碳化硅[A];第三届全国化学工程与生物化工年会论文摘要集（下）[C];2006年

6 张溪文;韩高荣;;介质阻挡放电化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜研究[A];TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2005年

7 练友运;刘翔;许增裕;宋久鹏;于洋;庄志刚;;铜基表面化学气相沉积制备钨涂层的组织与性能[A];中国核科学技术进展报告（第二卷）——中国核学会2011年学术年会论文集第7册（核电子学与核探测技术分卷、脉冲功率技术及其应用分卷、核聚变与等离子体物理分卷）[C];2011年

8 刘晓亭;陈茜;罗静;王文宇;陈皓;;多孔石英陶瓷上化学气相沉积氮化硅薄膜[A];2011年全国青年摩擦学与表面工程学术会议论文集[C];2011年

9 徐幸梓;张力;曾丁丁;陈玉安;韩志范;;氢在化学气相沉积制备碳材料过程中的作用[A];2007高技术新材料产业发展研讨会暨《材料导报》编委会年会论文集[C];2007年

10 周健;罗迎社;李立君;钟琦文;殷水平;;激光诱导化学气相沉积制造微碳柱的研究[A];中国化学会、中国力学学会第九届全国流变学学术会议论文摘要集[C];2008年

中国博士学位论文全文数据库 前6条

1 杨诗瑞;化学气相沉积制备高纯度Re、Ir的相关机理研究[D];北京理工大学;2015年

2 刘鑫;自组装单分子层上化学气相沉积铜薄膜研究[D];浙江大学;2007年

3 马磊;化学气相沉积原位合成过渡金属和碳纳米管复合改性二氧化钛光催化材料[D];华东理工大学;2012年

4 朱小奕;化学气相沉积法合成锂离子电池硅碳复合负极材料的研究[D];青岛大学;2013年

5 何春年;化学气相沉积法原位合成碳纳米管增强铝基复合材料[D];天津大学;2008年

6 孟明;In_O_3晶面的可控生长及晶面依赖的光电催化性能研究[D];南京大学;2015年

中国硕士学位论文全文数据库 前10条

1 周乐君;化学气相沉积法制备超细铼粉的研究[D];中南大学;2010年

2 赵万顺;高温化学气相沉积系统的温度场和流场的研究与改进[D];华北电力大学;2012年

3 王薇;铼的化学气相沉积前驱体的合成探究[D];昆明理工大学;2013年

4 季龙庆;化学气相沉积制备碳化硅过程的数值模拟[D];大连理工大学;2013年

5 刘鹏;常压化学气相沉积法二氧化钛薄膜的制备与掺杂性能研究[D];浙江大学;2004年

6 郝振华;化学气相沉积法制备ZrO_2涂层的显微结构与性能研究[D];中南大学;2012年

7 孙爱祥;化学气相沉积TiN薄膜工艺优化及其性能研究[D];西华大学;2012年

8 吴松;自组装单分子层改性硅基材上化学气相沉积铜薄膜及计算机模拟研究[D];浙江大学;2006年

9 翁伟浩;连续快速常压化学气相沉积法制备二氧化钛与掺杂二氧化钛薄膜及其性能的研究[D];浙江大学;2007年

10 霍艳丽;化学气相沉积制备碳化硅致密膜层的研究[D];中国建筑材料科学研究总院;2007年

，

本文编号：1046124