Ni纳米颗粒催化氮化反应制备氮化硅粉体

发布时间：2018-03-02 09:24

  本文关键词： 氮化硅 催化氮化 镍纳米颗粒 密度泛函理论　出处：《硅酸盐学报》2017年01期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：采用化学原位还原法将Ni纳米颗粒均匀负载于Si粉表面,研究了Ni纳米催化剂用量对不同温度(1 200~1400℃)时Si粉的氮化行为的影响及Si_3N_4粉体的形成及机理。结果表明:含2%(质量分数,下同)Ni纳米催化剂的样品1 350℃氮化2 h后,其中残留的Si含量仅为3%;Ni纳米催化剂的引入可以有效地促进Si_3N_4晶须的生成;密度泛函理论计算表明,Ni纳米颗粒催化剂可以促进N_2分子在较低温度下解离为N原子,进而加快了Si粉的氮化。
[Abstract]:The Ni nanoparticles were uniformly loaded on the surface of Si powder by chemical in situ reduction method. The effect of the amount of Ni nanometer catalyst on nitridation behavior of Si powder at different temperatures (1 200 ~ 1 400 鈩，

本文编号：1555934