氯化钾无氰镀镉溶液中铜杂质的分析

发布时间：2018-03-22 01:03

  本文选题：无氰镀镉溶液　切入点：铜杂质　出处：《电镀与涂饰》2017年03期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：利用铜离子与双环己酮草酰二腙的特效显色反应,制定了测定氯化钾无氰镀镉溶液中铜杂质的分光光度法。在加热和强酸性条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,用甲酸铵还原残留的过硫酸铵,用酒石酸钾钠配合镀液中的镉离子以及铝、铁、镍、锌等杂质,用氨水调节pH至弱碱性,用双环己酮草酰二腙与铜离子反应生成蓝色配合物,以水做参比液,在波长600 nm处测定吸光度。测定结果的相对平均偏差为0.65%,回收率为98.5%~101.2%。
[Abstract]:A spectrophotometric method for the determination of copper impurities in cadmium plating solution of potassium chloride without cyanide was developed by using the special color reaction of copper ion with dicyclohexanone oxalyl dihydrazone. The coordination agent was oxidized by ammonium persulfate in the plating solution under the condition of heating and strong acidity. The residual ammonium persulfate was reduced with ammonium formate and potassium sodium tartrate combined with cadmium ions and impurities such as aluminum, iron, nickel and zinc in the plating solution. The pH was adjusted to weak alkalinity with ammonia water, and the blue complex was formed by the reaction of dicyclohexanone oxaloyl dihydrate with Hydrazone copper ion. The absorbance was determined at the wavelength of 600 nm with water as the reference solution. The relative average deviation of the determination was 0.65 and the recovery was 98.5% 101.2%.
【作者单位】： 广州超邦化工有限公司;
【分类号】：TQ153.17

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本文编号：1646345