双氦离子化气相色谱仪分析四氟化硅气体中微量杂质

发布时间：2018-04-24 12:04

  本文选题：四氟化硅 + 氟代烷　； 参考：《硅酸盐通报》2017年06期

【摘要】：介绍了一种利用双通道氦离子化气相色谱仪(PDHID),分析四氟化硅中微量硅烷、磷烷、氟代烷、C2~C3碳氢化合物以及常见气体杂质的方法。由于四氟化硅具有很强的腐蚀性,在对其进行分析时,利用阀切割系统将大量的四氟化硅主要成分切割,及时地将四氟化硅反吹出去,使其不进入检测器系统。经过将四氟化硅气体进样检测验证,该方法能够有效测定四氟化硅气体中多种微量杂质。
[Abstract]:A method for the analysis of trace amounts of silane, phosphane, Fluoroalkane, C2~C3 hydrocarbons and common gas impurities in four fluoridated silicon fluoride (PDHID) is introduced. Because of the strong corrosiveness of four silicon fluoride, the main components of a large number of four silicon fluoride are cut by the valve cutting system. Cut, the four silicon fluoride is blown out in time so that it does not enter the detector system. The method can effectively determine a variety of trace impurities in the four silicon fluoride gas by testing the four fluorinated silicon gas samples.

【作者单位】： 贵州省产品质量监督检验院;贵州大学化学与化工学院;
【基金】：国家质量监督检验检疫总局科技计划项目(2015QK194) 贵州省科技计划(黔科合SY字[2014]3068号)
【分类号】：O657.71;TQ127.2

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本文编号：1796546