不同还原剂种类对石墨烯结构与性能的影响
本文选题:石墨烯 + 氢碘酸 ; 参考:《化工新型材料》2017年02期
【摘要】:通过水合肼和氢碘酸分别对氧化石墨烯薄膜进行还原处理,制备出不同形态的石墨烯材料,并采用XRD、FT-IR、SEM及TEM等对实验样品进行结构表征。结果表明:氧化石墨烯薄膜在水合肼中由于完全分散导致还原更加彻底,而在氢碘酸中由于依旧保持薄膜状导致还原程度较低,但经由氢碘酸还原后保持薄膜状的石墨烯因为结构完整、致密度高从而具有更好的导电性能,方块电阻最低为10Ω/□。
[Abstract]:Graphene oxide films were reduced by hydrazine hydrate and hydroiodate respectively to prepare graphene materials with different forms. The structure of the samples was characterized by XRDD-FT-IRU SEM and TEM. The results show that the reduction of graphene oxide films in hydrazine hydrate is more complete due to its complete dispersion, while the reduction degree is lower in hydroiodic acid because of its still thin film shape. However, graphene with thin film after reduction by hydroiodate has better conductivity because of its complete structure and high density. The lowest square resistance is 10 惟 / -.
【作者单位】: 湖北工业大学材料科学与工程学院;
【分类号】:TQ127.11
【参考文献】
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【共引文献】
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,本文编号:1981616
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