氯化钾无氰镀镉故障的处理措施

发布时间：2018-06-15 21:38

  本文选题：无氰镀镉 + 故障处理　； 参考：《电镀与涂饰》2017年05期

【摘要】：描述了新型氯化钾无氰镀镉出现的几例故障和应对措施。配位剂含量过高时,镀液容易浑浊;氯化镉含量过低时,低电流密度区沉积速率太慢;镀液pH偏低时低电流密度区镀层粗糙,偏高则高电流密度区镀层粗糙;添加剂的分解产物过多会导致镀层粗糙,需定期用活性炭处理镀液。根据生产经验,将部分工艺参数调整为:氯化镉25~35g/L,配位剂90~140g/L,氯化钾140~180g/L,镀液pH=6.5~7.5。氯化镉与配位剂的浓度范围扩大明显提高了工艺的可操作性。
[Abstract]:Several faults and countermeasures of new type potassium chloride without cyanide cadmium plating are described. When the concentration of coordination agent is too high, the bath is easy to turbidity, the deposition rate of low current density is too slow when the content of cadmium chloride is too low, the coating of low current density is rough when pH is low, and the coating of high current density is rough. Too much decomposition product of additives will lead to rough coating, need to treat the bath with activated carbon on a regular basis. According to the production experience, some technological parameters were adjusted as follows: cadmium chloride 25 ~ 35 g / L, coordination agent 90 ~ 140 g / L, potassium chloride 140 ~ 180 g / L, bath pH 6.5 ~ 7.5. The concentration range of cadmium chloride and coordination agent was enlarged and the operation of the process was improved obviously.
【作者单位】： 广州超邦化工有限公司;贵州华烽电器有限公司;
【分类号】：TQ153.17

【参考文献】

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本文编号：2023743