电沉积制备钴-钼合金薄膜及其耐蚀性的研究

发布时间：2018-10-11 09:04

【摘要】：采用电沉积方法制备了钴-钼合金薄膜,并研究了钼酸钠的浓度对薄膜耐蚀性的影响。研究发现,钴-钼合金薄膜具有一种典型的Co3Mo四面体结构。适当提高镀液中钼酸钠的浓度,有利于提高薄膜中钼的质量分数及薄膜的耐蚀性。但当镀液中钼酸钠的浓度过高时,会阻碍钴的电沉积,促进析氢过程,MoO2的析出使得薄膜表面的粗糙度和孔隙率增大,薄膜的耐蚀性变差。
[Abstract]:Co-Mo alloy films were prepared by electrodeposition and the effect of sodium molybdate concentration on the corrosion resistance of the films was studied. It is found that the Co-Mo alloy film has a typical Co3Mo tetrahedron structure. A proper increase in the concentration of sodium molybdate in the bath is beneficial to increase the mass fraction of molybdenum in the film and the corrosion resistance of the film. However, when the concentration of sodium molybdate in the plating solution is too high, the electrodeposition of cobalt will be hindered and the process of hydrogen evolution will be promoted. The surface roughness and porosity of the films will increase with the precipitation of MoO2, and the corrosion resistance of the films will become worse.
【作者单位】： 佛山科学技术学院环境与化学工程学院;佛山科学技术学院物理与光电学院;
【基金】：广东省创新强校工程高校特色创新项目(2015xts03) 佛山市科技计划项目(2016AB000111)
【分类号】：TQ153.2

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：2263623