钼圆片电镀钌挂具的设计

发布时间：2018-11-14 07:21

【摘要】：针对钼圆片镀钌挂具不合理设计所产生的挂点、对电流产生遮挡以及边缘效应明显等问题,采用辅助阴极的方法加以改进,从而改善了镀层的均匀性,并通过一具多挂提高了生产效率。
[Abstract]:In view of the problems such as shielding current and obvious edge effect caused by unreasonable design of Ruthenium plated molybdenum wafer, the method of auxiliary cathode is adopted to improve the uniformity of coating. And the production efficiency is improved through a multi-hanging.
【作者单位】： 神华准能资源综合开发有限公司研发中心;
【分类号】：TQ153

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本文编号：2330448