CTAB对氯硅烷残液水解制备二氧化硅的影响

发布时间：2021-02-10 15:03

　　以十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为表面活性剂,氯硅烷残液为硅源,在水溶液中水解制备了较高比表面积多孔二氧化硅粉体。研究了在水解体系中引入表面活性剂CTAB对二氧化硅粉体比表面积、孔径和孔容的影响。控制CTAB加入量和溶液的酸碱度,可以提高二氧化硅粉体的比表面积、孔径和孔容。二氧化硅粉体比表面积在100～750 m²·g^-1之间。 

【文章来源】：化学研究与应用. 2020,32(07)北大核心

【文章页数】：4 页

【部分图文】：

二氧化硅的XRD谱图

对在CTAB存在下氯硅烷残液水解制得的二氧化硅粉末进行了FT-IR测试,分析结果如图2所示。由图2可见,470 cm-1处的吸收峰为Si-O键的弯曲振动峰,795和1075 cm-1处的峰分别对应Si-O-Si键的对称伸缩振动峰和反对称伸缩振动峰,1630 cm-1是水的H-O-H键的弯曲振动峰,3440 cm-1是硅羟基和结合水的反对称O-H键伸缩振动峰。与常见低温制备的二氧化硅FT-IR图谱一致[8-9],表明粉体为二氧化硅。2.3 水解工艺参数对二氧化硅结构的影响

CTAB的饱和浓度为13g·L-1(20℃),临界胶束浓度为9.0×10-4mol·L-1(20oC)[10]。二氧化硅粉体制备过程中控制CTAB的浓度在其饱和浓度的0.2倍以内。控制氯硅烷残液的加入量在(10～50)mL·L-1,控制加料速度。快速搅拌。水解终了时溶液pH≈1。水解溶液初始状态为添加与不添加碱性物质两种情况。未添加碱性物质时不同CTAB浓度对氯硅烷残液水解制备二氧化硅的影响,采用低温氮气吸脱附方法BET测试数据对制备的二氧化硅进行分析,分析结果如表1、图3、图4所示。由图3可见:制得二氧化硅粉体皆为I V型吸附等温线,皆有H1型滞后环[11-12],表明所得材料皆为多孔材料。图中样品A～C与表1中样品一一对应,样品C与表2中样品1对应。

【参考文献】：
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本文编号：3027549