板式pecvd制备氧化铝工艺研究

发布时间：2021-05-20 00:54

　　相比原子层沉积（ALD）,等离子体增强化学气相沉积技术（PECVD）在氧化铝钝化膜制备方面沉积速率快。利用板式PECVD在电池背表面制备氧化铝钝化膜,膜厚控制在7nm～10nm,折射率大于1.63,双面氧化铝钝化少子寿命可达3ms,表面复合速率低至3cm/s。结合背激光开槽开孔率的增大,应用到量产钝化发射极背接触（PERC）晶硅电池,效率可达22.3%。 

【文章来源】：山西化工. 2020,40(01)

【文章页数】：3 页

【文章目录】：
引言
1 实验部分
2 实验结果及分析
    2.1 表面钝化质量
    2.2 激光开槽调优
    2.3 PERC电池应用
3 结论



本文编号：3196764