多层硅外延中自掺杂现象研究

发布时间：2021-05-20 03:31

　　本文主要对多层硅外延自掺杂现象的进行科学研究,并分析了不同工艺处理条件对其自掺杂现象的影响,提出几点改善措施,期望对相关多层硅自掺杂现象研究人员有帮助。 

【文章来源】：科技风. 2020,(13)

【文章页数】：1 页

【文章目录】：
1 多层硅外延自掺杂试验以及数据整理分析
2 不同工艺技术对多层硅外延自掺杂现象的影响
3 改善多层硅外延自掺杂现象的有效措施
4 结语



本文编号：3197001