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高铝玻璃高透蒙砂的制备工艺研究

发布时间:2021-08-20 00:31
  高铝玻璃因本身氧化铝含量高,化学稳定性好,再经化学强化之后具有良好的力学性能,尤其表现在抗压、抗摔和抗划伤等方面,因此被广泛地用于电子产品屏幕的加工过程中。但其同时也存在一些问题,例如未经特殊加工处理的高铝玻璃表面具有较高的反射率,常常造成“眩光袭击”,也就是我们通常所说的“光污染”。本论文利用化学蚀刻法对高铝玻璃表面进行蒙砂处理,制备具有较高透光率、光泽度和低粗糙度的蒙砂玻璃,从而实现消除“光污染”的目的。最后对玻璃蒙砂后的废水进行处理,使其达到国家工业废水排放标准。本论文以高铝玻璃为研究对象。为了确保蒙砂玻璃制备工作的顺利进行,对蒙砂反应的机理进行探究;在传统玻璃蒙砂配方的基础之上,探索设计高铝玻璃的蒙砂配方组分及配比,通过单因素实验与正交试验对蒙砂液的配比进行优化;采用单因素实验确定了高铝玻璃高透蒙砂的最优工艺参数;对蒙砂玻璃的光泽度和粗糙度进行测量;并对高铝蒙砂玻璃的表面形貌和光学性能进行了测定与分析;蒙砂玻璃制备结束后产生的蒙砂废液进行成分分析和污染物处理。如下对本实验的研究成果进行阐述:(1)利用X射线衍射实验对蒙砂反应过程中生成的氟硅酸盐晶体进行研究,清楚的了解蒙砂玻璃制... 

【文章来源】:陕西科技大学陕西省

【文章页数】:84 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

高铝玻璃高透蒙砂的制备工艺研究


蒙砂反应后高铝玻璃粉末的X射线衍射图

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高铝玻璃高透蒙砂的制备工艺研究a IV 型 X 射线衍射仪(日本理学),管电压:20-60速度扫描为 8o/min。该方法可分析样品处理前后过程玻璃制备过程中生成超微晶粒子的种类。首先 20 到 80 目筛之间的玻璃粉与蒙砂液进行充分量的产物进行 XRD 射线衍射实验,再与同一研谱作对比试验。结果如图 2-3、2-4 所示。图 2-4 对比可以知道,高铝玻璃粉与蒙砂液发生成,如 Na2SiF6、(NH4)2SiF6和 K2SiF6,而且还产蒙砂液中反应物 BaSO4、K2SO4有剩余。XRD 机理的研究以及后期蒙砂废液的处理提供了可靠

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高铝玻璃高透蒙砂的制备工艺研究时间延长逐渐增大,从而在玻璃表面形成了蛛网状的氟硅酸盐晶体。其中酸盐晶体则会堆积在玻璃表面,使得被超微晶粒子覆盖的部分玻璃不会受续发生反应,而玻璃裸露在外会的部分被蚀刻,进而在玻璃表面出现了许坑,使玻璃原本光滑透明的表面变成了无光泽的毛面,产生了毛面玻璃[8

【参考文献】:
期刊论文
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[6]减反射玻璃的制备方法及发展趋势[J]. 杨扬,钱学君.  建材世界. 2016(02)
[7]一种解决触摸屏眩光难题的新材料出炉[J]. 蔚慧.  信息记录材料. 2015(04)
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博士论文
[1]氟硅酸盐微晶玻璃的研究[D]. 陈伟民.华南理工大学 1997

硕士论文
[1]蒙砂玻璃的研制及应用[D]. 许淑嫱.陕西科技大学 2017
[2]高清显示面板玻璃固结磨料抛光机理与工艺研究[D]. 周含宣.南京航空航天大学 2014
[3]微氟玻璃蚀刻技术的开发及应用[D]. 张佳.陕西科技大学 2014
[4]钠钙平板玻璃表面化学处理与特性研究[D]. 刁云超.大连工业大学 2012
[5]高透过防眩玻璃的制备与性能研究[D]. 罗春炼.东华大学 2009
[6]石灰—硫酸铝法处理高浓度含氟废水实验研究[D]. 陈燎原.湖南大学 2005



本文编号:3352444

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