钕铁硼永磁体电镀镍工艺优化及镀层性能

发布时间：2017-06-27 19:20

  本文关键词：钕铁硼永磁体电镀镍工艺优化及镀层性能，由笔耕文化传播整理发布。

【摘要】：以钕铁硼永磁体为基体,电沉积制备镍镀层。以镍镀层的耐蚀性、结合力、显微硬度和腐蚀电位为性能指标,通过正交试验得到最优配方和工艺条件为:NiSO_4·6H_2O 250 g/L,NiCl_2·6H_2O 30 g/L,H_3BO_3 35 g/L,糖精钠0.5 g/L,十二烷基硫酸钠(SDS)1 g/L,pH 5.0,电流密度2.0 A/dm2,温度50°C。在最佳工艺下制备的镍镀层结晶细致、均匀,结合力为9级,显微硬度为644.0 HV。与钕铁硼基体相比,Ni镀层在3.5%Na Cl溶液中的腐蚀电位正移了0.43 V,腐蚀电流密度降低了近2个数量级,表明电镀镍可提高钕铁硼的耐蚀性。
【作者单位】： 太原科技大学材料科学与工程学院;
【关键词】： 钕铁硼永磁体 电镀镍 耐蚀性 结合力 显微硬度 正交试验
【基金】：山西省自然科学基金(2014011015-5)
【分类号】：TQ153.12
【正文快照】： 钕铁硼(Nd Fe B)稀土永磁体因其优异的矫顽力和磁性能而广泛应用于电子产品、微波技术、核磁共振成像、风力发电、新能源汽车等高科技领域[1-4]。钕铁硼中富钕相的化学性质极其活泼,导致Nd Fe B永磁体的耐蚀性很差,从而严重限制了其在许多领域的进一步应用和发展[5-7]。目前Nd

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1 饶厚曾,李国华,赵文海;钕铁硼永磁体电镀Ni-P非晶态合金镀层[J];稀土;2004年02期

2 ;[J];;年期

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本文编号：490978