一种无氰碱性光亮镀铜新工艺

发布时间：2017-06-29 14:19

  本文关键词：一种无氰碱性光亮镀铜新工艺，由笔耕文化传播整理发布。

【摘要】：为了解决无氰碱性镀铜存在的镀液不稳定、抗杂质能力弱、与工件间结合力差以及镀液排放的废水中含有磷或有机膦等问题,推出了一种新的无氰碱性光亮镀铜新工艺:以柠檬酸(C6H8O7)为Cu2+的主配位剂、丁二酰亚胺(C4H5O2N)为Cu2+的辅助配位剂;使用了超分子化学物质葫芦脲(CB-n)作为防止铜在钢铁件上产生置换的添加剂以及含有聚氨脲、吲哚类、乙氧基醇类等物质的光亮剂。通过小槽试验、Hull Cell试验、阴极极化曲线、机械弯曲、锉刀等方法考察了电镀效果。结果表明:镀液的性能稳定,可得到阴极电流效率在70%~85%、深镀能力为100%的光亮、均匀、结合力好的铜镀层;推荐的溶液组成和操作条件为25~30 g/L Cu SO_4·5H_2O,75~90 g/L C6H8O7,8~10 g/L C4H5O2N,2~5 g/L KNa C4H4O6·4H2O,25~30 g/L H3BO3,90~120 g/L KOH,0.01~0.05mg/L化学置换铜抑制剂CB-n,8~20 m L/L光亮剂,p H值9.0~11.0,Jc=0.2~3.0 A/dm2,温度45~55℃,阳极为纯铜。
【作者单位】： 武汉吉和昌化工科技有限公司;武汉大学化学与分子科学学院;湖北吉和昌化工科技有限公司;
【关键词】： 镀铜 无氰碱性溶液 柠檬酸 丁二酰亚胺 葫芦脲 光亮剂
【分类号】：TQ153.14
【正文快照】： 0前言电镀铜层具有良好的延展性、导电性、导热性,易于抛光,而且与铁及其他金属亲和力强、结合力好,可作为预镀层或多层电镀的底层,节约大量的镍及其他贵重金属,已被广泛地用于机械、电子、航空航天、兵器、汽车、船舶等工业领域。氰化物电镀铜工艺较为成熟,但有剧毒,国家已下

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本文编号：498214