MPCVD制备金刚石膜的形核与生长过程

发布时间：2017-07-16 13:05

  本文关键词：MPCVD制备金刚石膜的形核与生长过程

  更多相关文章： 金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 形核 生长

【摘要】：简要介绍了金刚石膜的物理化学特性及应用领域。对比分析了主要化学气相沉积方法的优缺点,并指出MPCVD所面临的技术瓶颈。总结了反应腔体内压强、基片温度、基体材料及增强形核技术对金刚石膜形核过程的影响。较低腔体内压力、基片温度,高碳源浓度及等离子体预处理能有效提高形核密度。阐述了各过程参数对金刚石膜生长的影响和微米、纳米、超纳米金刚石膜的技术特点及应用。指出各类金刚石膜制备所面临的技术难题,并综述了解决该技术瓶颈的最新研究工作。
【作者单位】： 昆明理工大学超硬材料先进制备技术国际联合研究中心;昆明理工大学非常规冶金教育部重点实验室;云南民族大学民族地区矿产资源综合利用重点实验室;昆明理工大学微波能工程应用与装备技术国家地方联合工程实验室;昆明理工大学冶金与能源工程学院;
【关键词】： 金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 形核 生长
【基金】：国家国际科技合作专项项目(L2015RR0101) 昆明市科技计划项目(2014-01-01-A-H-02-0002)
【分类号】：TQ163;TB383.2
【正文快照】： (1 State International Joint Research Center of Advanced Technology for Superhard Materials,Kunming University of Science andTechnology,Kunming 650093;2 Key Laboratory of Unconventional Metallurgy,Ministry of Education,Kunming University ofScience and Te

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本文编号：548775