ZnO基透明导电薄膜的制备和掺杂改性研究进展

发布时间：2017-08-07 16:12

  本文关键词：ZnO基透明导电薄膜的制备和掺杂改性研究进展

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【摘要】：ZnO基透明导电膜的研究进展迅速,其光电性能已接近锡掺杂铟氧化物透明导电薄膜(ITO),而且它相比ITO薄膜易于掺杂、更易刻蚀、在等离子体中稳定性好,未来有望成为平板显示器中取代ITO薄膜的材料。概述了氧化锌基透明导电膜的制备方法和掺杂改性研究进展,对单层膜和多层膜的制备进行了分析,对氧化锌基透明导电膜的研究趋势进行了展望。
【作者单位】： 江苏大学材料科学与工程学院;江苏新浦电子科技有限公司;
【关键词】： 氧化锌 透明导电薄膜 制备方法 掺杂改性 研究进展
【基金】：溧阳市科技项目资助(LA2015001)
【分类号】：TQ132.41;TB383.2
【正文快照】： 0引言近年来,随着光波导材料、平板显示器、导电气敏传感器等的大力发展,TCO透明氧化物导电薄膜作为一种集透明光性能与导电性能于一体的新型光电材料,正受到人们广泛关注[1-3]。目前,应用最多的是锡掺杂铟氧化物透明导电薄膜(ITO),其由于透光率高、电导性好、硬度高等优点,广

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本文编号：635527