常压烧结SiC超光滑抛光性能研究

发布时间：2017-08-17 12:26

  本文关键词：常压烧结SiC超光滑抛光性能研究

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【摘要】：采用常压烧结的方法制备了反射镜用SiC陶瓷材料。研究了金刚石、氧化铬(Cr_2O_3)和二氧化硅(SiO_2)_3种磨料对常压烧结SiC陶瓷抛光性能的影响。结果表明,常压烧结SiC的各项物理性能满足反射镜基底材料的基本要求;金刚石磨料与常压烧结SiC陶瓷的硬度差最小,且超顺滑抛光过程中金刚石磨粒形状在SiC陶瓷表面产生的位错、空位等缺陷最少,因此采用金刚石磨料时,常压烧结SiC陶瓷的表面质量最好,其表面粗糙度值(RMS)为0.789 nm,面形精度为0.007λ(λ=0.632 8μm),满足反射镜的使用要求。
【作者单位】： 钢铁研究总院;中国钢研科技集团有限公司;
【关键词】： SiC 常压烧结 磨料 金刚石 表面粗糙度
【基金】：国家科技重大专项资助项目(2013ZX02104)
【分类号】：TQ174.1
【正文快照】： Si C材料由于比刚度高、热稳定系数高、光学加工性能好、无毒等优良特性已广泛应用于制造空间望远镜、遥感侦查相机和光刻机方镜等[1-2]。根据制备工艺方法的不同,Si C可分为反应烧结Si C(RB-Si C)、化学气相沉积Si C(CVD-Si C)、热压烧结Si C(HP-Si C)、常压烧结Si C(S-Si C)

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本文编号：689032