复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展

发布时间：2017-11-11 05:04

  本文关键词：复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展

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【摘要】：高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是一门新兴的高离化率磁控溅射技术。概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界面结合强度以及复杂形状工件表面膜层厚度均匀性好等。同时归纳了HIPIMS存在的问题,包括沉积速率及低溅射率金属靶材离化率低等。在此基础上,重点综述了近年来复合HIPIMS技术的研究进展,其中复合其他物理气相沉积技术的HIPIMS,包括复合直流磁控溅射增强HIPIMS、复合射频磁控溅射增强HIPIMS、复合中频磁控溅射增强HIPIMS、复合等离子体源离子注入与沉积增强HIPIMS等;增加辅助设备或装置的HIPIMS,包括增加感应耦合等离子体装置增强HIPIMS、增加电子回旋共振装置增强HIPIMS,以及增加外部磁场增强HIPIMS等。针对各种形式的复合HIPIMS技术,分别从复合HIPIMS技术的放电行为、离子输运特性,及制备膜层的结构与性能等方面进行了归纳。最后展望了复合HIPIMS技术的发展方向。
【作者单位】： 东北林业大学工程技术学院;东北林业大学林业工程博士后流动站;河南牧业经济学院包装与印刷工程学院;
【基金】：中央高校基本科研业务费专项资金项目资助(2572015CB07) 黑龙江省科学基金项目资助(QC2016053) 中国博士后科学基金项目资助(2016M590273) 黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助(12523008)~~
【分类号】：TG174.444
【正文快照】： Received:2016-03-23;Revised:2016-05-30基金项目资助(2016M590273);黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助(12523008)Fund:Supported by the Fundamental Research Funds for the Central Universities(2572015CB07);The Science Foundation of HeilongjiangProvince of China

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本文编号：1169907