磁流变抛光连续加工状态下去除函数稳定控制

发布时间：2017-12-16 15:23

  本文关键词：磁流变抛光连续加工状态下去除函数稳定控制

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【摘要】：在长时间连续加工情况下,即使稳定控制工艺参数,磁流变抛光材料去除效率仍会出现下降.通过仿真认为,去除效率的下降对于大口径工件的高精度修形而言不可忽略.通过材料去除机理分析、磁流变液微粒观测以及X射线衍射测试,认为去除函数发生变化是磁流变液中抛光颗粒消耗所致.基于液体抛光效率随抛光颗粒浓度增大而趋于饱和的规律,提出了定时定量添加过饱和磁流变抛光液使去除函数得到稳定控制的方法.通过实验,去除函数体积去除效率在达到饱和后波动率小于1!.最后对大口径光学元件进行修形,验证了控制方法的有效性.
【作者单位】： 国防科技大学机电工程与自动化学院;超精密加工技术湖南省重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51275521) 新世纪优秀人才计划资助项目(NCET-12-0144)
【分类号】：TG580.692
【正文快照】： 磁流变抛光技术[1-3]是一种新型的确定性抛光技术,利用磁流变抛光液在磁场作用下形成的“柔性抛光模”对工件表面进行材料去除,具有适用范围广、加工精度高、收敛效率高、亚表面损伤小等显著优点.研究表明,磁流变抛光在加工过程中,去除函数保持稳定是其实现稳定高效加工的前提

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本文编号：1296540