TiAlN薄膜掺杂Cr、Ni对其耐腐蚀性的影响
本文关键词：TiAlN薄膜掺杂Cr、Ni对其耐腐蚀性的影响 出处：《材料热处理学报》2016年12期 论文类型：期刊论文
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【摘要】：在4Cr13不锈钢表面采用多弧离子镀沉积TiAlN薄膜,采用磁控溅射法和多弧离子镀在4Cr13表面分别沉积掺杂Cr和Cr、Ni的TiAlN薄膜,采用电化学工作站对其进行电化学腐蚀性能测试。结果表明:在1 mol/L的H_2SO_4溶液中,同时掺杂Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蚀性是TiAlN薄膜的4.1倍,是掺杂Cr的TiAlN薄膜的1.3倍;在3%的NaOH溶液中,同时掺杂Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蚀性是TiAlN薄膜的3倍,是掺杂Cr的TiAlN薄膜的2倍;在3.5%的Na Cl溶液中,同时掺杂Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蚀性是TiAlN薄膜的11.4倍,是掺杂Cr的TiAlN薄膜的1.3倍。
[Abstract]:TiAlN thin films were deposited on 4Cr13 stainless steel by multi-arc ion plating. Doping Cr and Cr on 4Cr13 surface were deposited by magnetron sputtering and multi-arc ion plating respectively. The electrochemical corrosion properties of Ni TiAlN thin films were tested by electrochemical workstation. The results showed that Cr was doped in 1 mol/L H _ 2SO _ 4 solution at the same time. The corrosion resistance of Ni TiAlN film is 4.1 times of that of TiAlN film and 1.3 times of that of Cr doped TiAlN film. In 3% NaOH solution, the corrosion resistance of TiAlN films doped with Cr-Ni is 3 times as much as that of TiAlN films and twice as high as that of TiAlN films doped with Cr. In 3.5% NaCl solution, the corrosion resistance of TiAlN films doped with Cr-Ni is 11.4 times that of TiAlN films. It is 1. 3 times as much as Cr doped TiAlN thin film.
【作者单位】： 桂林电子科技大学材料科学与工程学院;
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51264007) 桂电-桂林电科院研究生资助项目(20141103-09-Z) 广西信息材料重点实验室重点项目(1210908-214-Z) 广西自然科学基金资助项目(2015GXNSFBA139214) 桂林电子科技大学研究生教育创新计划资助项目(YJCXB201501)
【分类号】：TG174.4
【正文快照】： Ti N涂层以其特有的性能(高硬度、高耐磨性和低摩擦系数等)[1-5]在工业生产中获得了广泛的应用。Ti N是一种高硬度、耐磨蚀、应用广泛的涂层材料,是目前各种薄膜中研究最为成熟应用最为广泛的一种超硬膜。Ti Al N超硬薄膜是在Ti N基础上发展而来的又一种高性能薄膜。Ti Al N薄
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本文编号：1413816
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