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电流密度和氧化时间对铝硅合金阳极氧化膜的影响

发布时间:2018-04-17 10:48

  本文选题:铝合金 + 阳极氧化 ; 参考:《热加工工艺》2017年02期


【摘要】:以Al-4%Si合金为研究对象,研究了电流密度和氧化时间对铝硅合金阳极氧化膜的影响,并确定了合适的制膜工艺。通过热震、盐雾腐蚀试验对氧化膜的厚度和显微组织进行分析。结果表明:随着电流密度的增大,氧化膜孔径增加,并且电流过大导致氧化膜缺陷。随氧化时间的增加,氧化膜厚度先增加后减小。最佳电流密度为3.6 A/dm2,阳极氧化时间30 min,此条件下获得的氧化膜均匀,氧化膜与基体结合紧密且耐腐蚀相对较高。
[Abstract]:With the Al-4%Si alloy as the research object, the effects of current density and oxidation time effect of anodic oxide films on aluminum silicon alloy, and to determine the appropriate membrane preparation process. By thermal shock, salt fog corrosion test of oxide film thickness and microstructure were analyzed. The results showed that with the increase of current density, the pore size increased and oxide film. The current lead oxide film defects. With the increase of oxidation time, the thickness of the oxide film increases firstly and then decreases. The optimal current density is 3.6 A/dm2, anodic oxidation time 30 min, get this under the condition of uniform film, film and substrate closely and corrosion resistance is relatively high.

【作者单位】: 沈阳工业大学材料科学与工程学院;
【基金】:辽宁省特聘教授支持计划的资助项目(2013029906)
【分类号】:TG174.4

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号:1763279

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