AAO模板制备过程中电化学抛光工艺的研究

发布时间：2018-05-20 16:48

  本文选题：多孔阳极氧化铝模板 + 高纯铝片　； 参考：《热加工工艺》2016年16期

【摘要】：研究了在高氯酸/乙醇抛光液体系下,不同抛光电压(5、10、15、20 V)和抛光时间(2、3、4、5 min)的抛光工艺对抛光效果的影响。并且对抛光过程中的电流密度变化及抛光表面的光亮情况进行研究。结果表明,该体系的最佳抛光工艺:抛光电压15 V、抛光时间4 min(分两次抛光,每次时间为2 min)。
[Abstract]:The effects of different polishing voltages and polishing times on the polishing effect were studied in perchloric acid / ethanol polishing system. The change of current density and the brightness of polishing surface are studied. The results show that the optimum polishing process is as follows: polishing voltage 15 V, polishing time 4 min (2 mins each time).
【作者单位】： 内蒙古科技大学机械工程学院;
【基金】：国家自然科学基金项目(51562031);国家自然科学基金项目(50845065) 内蒙古自然科学基金项目(2014MS0516) 包头市科技计划项目(2013J2001-1)
【分类号】：TG175

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本文编号：1915458