铝合金反射镜磁流变抛光表面质量控制的参数优化

发布时间：2018-06-07 01:10

  本文选题：铝合金反射镜 + 化学机械抛光技术　； 参考：《纳米技术与精密工程》2017年02期

【摘要】：基于化学机械抛光(CMP)技术的基本原理,选取合适的抛光液,研究了铝合金反射镜磁流变抛光过程中材料的去除机理,分析了磁流变平坦化加工的可行性,并通过单因素实验确定了最优参数,最后研究了相应去除函数的稳定性.实验结果表明,铝镜经磁流变抛光后获得了较高的表面质量,表面粗糙度达到Ra=5.593 nm,且去除了车削时产生的纹路;铝镜磁流变去除函数稳定,去除效率较高.
[Abstract]:Based on the basic principle of chemical and mechanical polishing (CMP) technology, the removal mechanism of materials in the process of magneto-rheological polishing of aluminum alloy mirrors was studied, and the feasibility of magneto-rheological flattening process was analyzed. The optimal parameters are determined by single factor experiments, and the stability of the corresponding removal function is studied. The experimental results show that the surface quality of aluminum mirror is high after magneto-rheological polishing, the surface roughness is up to Ra=5.593 nm, and the ripple produced in turning is removed, and the removal function of magneto-rheological removal function is stable and the removal efficiency is higher.
【作者单位】： 国防科学技术大学机电工程与自动化学院;超精密加工技术湖南省重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51405503)
【分类号】：TG580.692

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本文编号：1988986