不同PVD技术沉积TiN涂层的形貌和力学性能研究（英文）

发布时间：2019-02-15 01:57

【摘要】：采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层。通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比。结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低。
[Abstract]:TiN coatings were prepared on GCr15 substrate by cathodic arc deposition, if magnetron sputtering and the combination of them. The microstructure and mechanical properties of the coatings were characterized and compared by SEM, XRD, micrometer scratch test, hardness test and friction and wear test. The results show that the composite magnetically controlled cathodic arc (TiN) coating has better comprehensive properties, such as smooth surface, higher adhesion and hardness, so the wear rate is lower.
【作者单位】： 大连理工大学;北京航空工业制造研究所高能束流加工技术重点实验室;
【基金】：National Instrumentation Grant Program(2011YQ120039)
【分类号】：TG174.4

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本文编号：2422842