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烧结NdFeB表面磁控溅射Al膜的工艺及其性能研究

发布时间:2021-01-05 11:01
  烧结NdFeB磁体由于具备优异的磁性能而被广泛地应用于各个领域,但由于磁体本身耐腐蚀性较差,限制了其进一步的应用。因此在工业实际应用中往往需要对其进行表面涂层防护。本文采用直流磁控溅射方法在烧结NdFeB磁体表面沉积纯Al膜,分别研究了本底真空度、沉积压力、基体温度、溅射功率密度和旋转速度对Al膜结构与性能的影响,具体研究内容与结论如下:(1)不同工艺参数对Al膜形貌、厚度以及晶体取向的影响:随着本底真空度升高,Al膜的厚度增加,致密度升高。随着沉积压力的升高,Al膜厚度增加,致密度降低。基体温度和旋转速度的的变化对膜层的厚度无明显影响,但随着温度的升高,膜层表面致密度升高,而转速越低膜层致密度越高。随着溅射功率密度的增大,膜层的厚度基本呈线性增长,致密度先升高再降低。工艺参数对Al膜的晶体取向均无明显的影响。(2)不同工艺参数对膜层耐蚀性的影响:磁控溅射Al膜层的耐腐蚀性能随本底真空度的升高而增强。较低的沉积压力制备的Al膜耐蚀性能最佳。在一定的温度范围内,适当提高基体温度有助于增强膜层的耐蚀性能。溅射功率密度过高或者过低都对Al膜的耐蚀性能不利。样品旋转速度越低,Al膜耐蚀性越好。... 

【文章来源】:厦门大学福建省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:111 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

烧结NdFeB表面磁控溅射Al膜的工艺及其性能研究


图1.1?20世纪永磁体材料的发展状况[1]??Fig.?1.1?Development?of?permanent?magnets?in?the?20th?century??

烧结NdFeB表面磁控溅射Al膜的工艺及其性能研究


图1.2烧结NdFeB磁体显微组织示总图【9]??Fig.?1.2?Sintered?NdFeB?magnetic?niicrostructure?diagram??

烧结NdFeB表面磁控溅射Al膜的工艺及其性能研究


图1.3烧结NdFeB磁体的腐蚀过程示意图[15]??Fi.1.3?Corrosionrocess?diaram?of?sintered?NdFeB?manets??

【参考文献】:
期刊论文
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硕士论文
[1]烧结NdFeB表面沉积Al/Ni薄膜及其耐腐蚀性研究[D]. 杨旖旎.华南理工大学 2016



本文编号:2958543

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