电沉积温度对熔融盐电沉积Ni/W复合层的影响

发布时间：2023-05-12 23:49

　　采用熔盐电沉积法制备了Ni/W复合层,通过扫描电镜,辉光放电光谱仪和电子背散射衍射技术对Ni/W复合层的微观结构、复合层厚度、晶粒尺寸及小角度晶界频率进行了表征。结果表明,Ni/W复合层的断裂方式为解理断裂;当电沉积温度为1073 K时,Ni/W复合层的表面平整光滑,晶粒尺寸大小均匀;随电沉积温度升高,复合层厚度逐渐增加,Ni在钨板中的扩散系数增大,小角度晶界频率增加。

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1实验材料及方法
2结果与讨论
    2.1电沉积温度对复合层微观结构的影响
        2.1.1表面形貌
        2.1.2断口形貌
    2.2电沉积温度对复合层厚度的影响
        2.2.1复合层厚度
        2.2.2 Ni的扩散系数
    2.3电沉积温度对晶粒尺寸的影响
    2.4电沉积温度对角度晶界的影响
3结论



本文编号：3814877