半球谐振子磁流变抛光的关键技术研究
【文章页数】:130 页
【学位级别】:博士
【部分图文】:
图1-1半球谐振陀螺仪结构及半球谐振子[5]
哈尔滨工业大学工学博士学位论文-2-0.1°/h~10°/h,商业级陀螺零偏稳定性为10°/h~1000°/h。a)半球谐振陀螺结构b)半球谐振子实物a)MechanicalstructureofHRGb)Hemisphericalshellresonator图1-1半球谐振陀螺....
图1-2磁流变抛Fig.1-2Schematicdiagr
法相比,电流变抛光加工工艺相对复杂且其材料去除率较低[24,25]。通过在对各种抛光方法加工原理与工艺特点进行对比分析的基础上,本文提出采用磁流变抛光方法(Magnetorheologicalfinishing,MRF)对半球谐振子零件进行抛光加工。磁流变抛光方法以磁流变液为工作....
图1-5不同曲率半径工件的磁流变抛光去除函数[44]
第1章绪论-9-曲面或直径在100mm以下光学零件的抛光加工。德国代根多夫应用技术大学(DeggendorfInstituteofTechnology)的研究人员实验研究了工件表面曲率半径的变化对磁流变抛光材料去除特性的影响,利用磁流变抛光斑点实验建立了几种典型曲率半径零件表面的....
图1-6A.K.Singh等研制的磁流变抛光装置[47]
哈尔滨工业大学工学博士学位论文-10-图1-6A.K.Singh等研制的磁流变抛光装置[47]Fig.1-6MRFdevicedevelopedbyA.K.Singh[47]印度理工学院的A.Sidpara等人实验预测了磁流变抛光单晶硅的加工参数,如磁敏颗粒与磨粒浓度、抛光液相对....
本文编号:3969780
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/jiagonggongyi/3969780.html