磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展

发布时间：2017-06-27 03:01

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【摘要】：概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能。提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力。
【作者单位】： 沈阳理工大学装备工程学院;沈阳工业大学材料科学与工程学院;辽宁省轻工科学研究院;沈阳理工大学材料科学与工程学院;
【关键词】： 磁控溅射 CrAlN 涂层
【基金】：辽宁省教育厅重点实验室基础研究资助项目(LZ2014013)
【分类号】：TG174.444
【正文快照】： 学研究院,沈阳110036;4沈阳理工大学材料科学与工程学院,沈阳110159)0引言现代科学技术的迅速发展对材料提出了越来越高的要求,涂层材料的应用也日益广泛。在工业应用领域,利用硬质涂层进行材料表面改性、装饰与各种工模具表面强化是提高材料性能的一种经济实用途径。表面涂层

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