极间距对6061铝合金微弧氧化的影响

发布时间：2017-09-02 15:05

  本文关键词：极间距对6061铝合金微弧氧化的影响

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【摘要】：目的通过改变极间距来控制膜层在试样表面的局部生长。方法通过改变阴极面积来营造均匀与非均匀的电场环境。分别进行微弧氧化试验,根据时间-电压曲线、弧光放电现象、膜层厚度分布等,分析了非均匀电场环境下,极间距对6061铝合金微弧诱发和生长过程的影响。结果非均匀场强下,极间距从2 mm增大到50 mm时,终止电压先从550 V降低到450 V,随后又逐渐上升到650 V;微弧诱发时间从10 s增加到310 s后,又减小到90 s;中心区域膜层厚度从7.5μm减小到1.5μm,后又增加到4μm,边缘区域的厚度则从0μm缓慢增加到4μm。微弧氧化在较小极间距的情况下,极间距的增大会降低反应速率和提高膜层的均匀性。结论极间距的变化会对膜层的生长速率、膜层厚度以及膜层的形貌特征产生很大影响。通过调整合适的极间距可以控制膜层的生长区域,实现膜层的局部优先生长。
【作者单位】： 南京工业大学材料科学与工程学院;
【关键词】： 铝合金 微弧氧化 非均匀电场 极间距 电压 机理分析
【基金】：江苏高校优势学科建设工程项目(12KJB430008)~~
【分类号】：TG174.4
【正文快照】： Received:2016-03-07;Revised:2016-07-23微弧氧化技术又称等离子体氧化或阳极火花沉积,是在普通阳极氧化的基础上发展起来的一种表面处理技术[1]。这种方法得到的膜层与基体结合力强,极大地改善了合金的耐磨[2]、耐蚀[3]、耐热冲击及绝缘性能[4]。微弧氧化技术已经出现了很多

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1 王玉魁,王传思,韩会民,高路斯,徐卫平;极间距对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层的影响[J];表面技术;1995年01期

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本文编号：779238