磁控溅射用难熔金属靶材制作、应用与发展

发布时间：2017-09-21 11:04

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【摘要】：随着磁控溅射技术应用日益广泛,难熔金属靶材需求不断增大。就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨,分析了制作过程中致密度、纯度、晶粒尺寸及结晶取向对靶材性能的影响,并对难熔金属靶材的发展趋势进行展望。
【作者单位】： 北京有色金属研究总院;邢台轧辊机电工程有限公司;
【关键词】： 磁控溅射 高纯难熔金属 靶材
【分类号】：TB383.2;TG14
【正文快照】： 近年来,通过表面改性技术制备薄膜材料的方法主要有化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)和物理气相沉积(physical vapor deposition,PVD)等,其中PVD制备过程所需要的溅射靶材市场需求量日趋增多。据统计,全球靶材市场需求量每年以20%的速度增

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本文编号：894144