大口径平面抛光机精密转台设计

发布时间：2017-10-09 09:42

  本文关键词：大口径平面抛光机精密转台设计

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【摘要】：抛光是获得超精密表面的重要手段。在平面抛光过程中,抛光垫类型对应不同的抛光工艺参数,抛光垫的修整精度直接影响工件面形精度,转台对抛光垫的精度具有重要影响,因此,转台系统精度成为衡量一台平面抛光机床的重要技术指标。文中对适用于大口径平面抛光机的精密转台部件进行了优化设计,该转台具有高精度、高稳定性等特点。检测结果及实际应用表明,文中设计的精密数控转台能够满足大口径平面元件高精度、高效率抛光的需要。
【作者单位】： 中原工学院机电学院;
【关键词】： 平面抛光 精密数控转台 面形精度 抛光垫
【基金】：“高档数控机床及基础制造装备”科技重大专项资助项目(2013ZX04006011)
【分类号】：TG580.21
【正文快照】： 抛光是获得超精密表面的重要手段,其目的是去除切削或磨削过程中产生的刀痕及亚表面损伤,在精密加工领域中发挥着越来越重要的作用。大口径平面镜制造已经成为活跃在当代科技前沿的不可或缺的关键支撑技术[1]。目前平面抛光仍然是获得全局平坦化唯一有效的加工方法,已广泛应用

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本文编号：999507