磁流变抛光的关键技术研究.pdf 全文

  本文关键词：磁流变抛光的关键技术研究，由笔耕文化传播整理发布。

分类号 学号 UDC 密级 工学硕士学位论文 磁流变抛光的关键技术研究 硕士生姓名 左益盟 学科专业 扭撼量i王猩 研究方向 擅壁王蕉生让簋扭撞型 指导教师 戴 盥 熬援 国防科学技术大学研究生院 二零零四年十一月 国防科学技术人学研究生院学位论文 摘要 磁流变抛光技术 MRF 是近十年新兴的～种先进光学制造技术，它将电磁学、流体动 力学理论、分析化学与光学零件加工理论相结合．提供了一种可以准确控制去除量的确定 性抛光策略，通过计算机控制，可以精确的控制抛光后的光学零件面形．同时保证低粗糙 度的表面加工质量、微小的工件亚表面损伤和高的／jnT-效率。磁流变抛光技术克服了传统 的光学零件加工方法效率低下、加工质量难以控制等缺点。开展这项技术的研究对于推动 我国光学加工技术的发展具有重要的意义。本文立足于磁流变抛光技术的基础性研究，主 要工作包括以下几个部分： 1．根据磁流变液的性能评价指标和光学零件的磁流变抛光具体要求，对磁流变抛光 液的各组成成分进行了选择，确定了其各自最佳成分类型，成功的配制出合格的水基磁流 变抛光液。 2．对所配磁流变抛光液的稳定性和流变性进行了研究。分析了影响稳定性的因素并 对稳定性进行了实验研究；自行研制了一台新型磁流变仪对磁流变抛光液

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