Nb基合金表面Mo-Si-B涂层的制备及其氧化行为研究
本文关键词:Nb基合金表面Mo-Si-B涂层的制备及其氧化行为研究,由笔耕文化传播整理发布。
【摘要】:铌及铌合金熔点高、密度低、良好的耐蚀性和突出的高温强度,是主要的高温结构材料之一。但其抗氧化性差,使其高温领域的应用受到限制。针对这一问题,本文选用Mo-Si-B涂层作为铌及铌合金的抗氧化防护层。 本文以Mo丝、Si粉和B粉为原材料,利用辉光离子渗法和包埋渗法在铌合金基体表面制备Mo-Si-B抗氧化涂层。首先用辉光离子渗Mo在铌合金表面制备了Mo涂层,借助SEM、XRD、EDS等手段分析了温度、时间对涂层的组织形貌、相结构,以及合金元素对涂层扩散层厚度的影响。随后在Mo涂层的基础上进行Si-B包埋共渗,选取不同Si、B比例的渗剂和不同包渗温度进行实验,通过XRD、SEM、EDS等手段对结果进行分析,研究了温度及渗剂对共渗层的影响,以及Mo-Si-B涂层的生长机制。最后研究了Mo-Si-B涂层在高低温下的氧化行为。结果表明: (1)通过辉光离子渗Mo可以在铌基材料上制备Mo涂层。温度对渗Mo层的影响很大,温度越高涂层结合力越好。时间越长,Mo涂层厚度越厚。 (2)Si-B包埋共渗可以在Mo层上沉积制备Mo-Si-B涂层,一定范围内不同B含量对涂层结构没有很大影响,温度对涂层结构影响较大。在1200℃下保温5h制备的涂层结构由外向里依次为MoSi2、MoB、基体;1300℃保温5h制备的涂层结构由外向里依次为MoSi2、少量弥散分布的MoB、NbSi2、NbB2、Nb5Si3、基体。 (3)Mo-Si-B涂层在低温600℃氧化5h所形成的氧化膜不连续致密,氧化产物为SiO2和MoO3;涂层在高温1250℃氧化5h所形成的氧化膜连续致密,,氧化产物主要为SiO2。 (4)MoB对涂层抗高温氧化有利,主体涂层中含有MoB层的涂层其高温抗氧化性能良好;主体涂层中没有MoB层的涂层高温抗氧化性能差。
【关键词】:铌 辉光离子渗Mo Si-B包埋共渗 Mo-Si-B涂层 氧化
【学位授予单位】:长安大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2014
【分类号】:TG174.4
【目录】:
- 摘要4-5
- Abstract5-9
- 第一章 绪论9-27
- 1.1 研究背景9-10
- 1.2 铌及铌合金氧化行为10-12
- 1.2.1 铌的氧化10-11
- 1.2.2 铌合金氧化11-12
- 1.3 提高铌及铌合金抗氧化的方法12-22
- 1.3.1 合金化法12-14
- 1.3.2 细化晶粒法14
- 1.3.3 涂层保护法14-19
- 1.3.4 铌及铌合金抗氧化涂层国内研究进展19
- 1.3.5 铌及铌合金抗氧化涂层的制备方法19-22
- 1.4 辉光等离子渗和包埋渗制备抗氧化涂层22-24
- 1.4.1 辉光等离子渗22-23
- 1.4.2 包埋渗法23-24
- 1.5 本论文采用的涂层体系24-25
- 1.6 课题研究意义及主要内容25-27
- 1.6.1 选题意义25-26
- 1.6.2 研究内容26-27
- 第二章 实验内容和方法27-36
- 2.1 基体材料的选择27
- 2.2 实验工艺流程27-28
- 2.3 辉光离子渗 Mo28-31
- 2.3.1 辉光离子渗 Mo 设备及原理28-29
- 2.3.2 辉光离子渗 Mo 实验材料29-30
- 2.3.3 渗 Mo 实验方案30-31
- 2.3.4 辉光离子渗 Mo 操作过程31
- 2.4 包埋渗 Si-B31-34
- 2.4.1 包埋渗设备及原理31-33
- 2.4.2 渗剂的准备33
- 2.4.3 包埋渗操作过程33-34
- 2.4.4 包埋渗工艺参数34
- 2.5 氧化实验34-35
- 2.5.1 低温氧化34
- 2.5.2 高温氧化34-35
- 2.6 实验结果分析35-36
- 2.6.1 X 射线衍射分析(XRD)35
- 2.6.2 扫描电子显微镜分析(SEM 分析)35
- 2.6.3 能谱分析(EDS)35-36
- 第三章 铌及铌合金表面辉光离子渗钼研究36-42
- 3.1 工艺参数对渗 Mo 层的影响36-41
- 3.1.1 温度对表面形貌影响36-37
- 3.1.2 温度对涂层厚度的影响37-38
- 3.1.3 温度对涂层截面形貌的影响38-40
- 3.1.4 时间对涂层厚度的影响40-41
- 3.1.5 基体合金元素对渗 Mo 的影响41
- 3.2 本章小结41-42
- 第四章 铌合金表面 Mo-Si-B 涂层的制备42-58
- 4.1 涂层表面分析42-44
- 4.1.1 涂层表面相分析42-43
- 4.1.2 涂层表面形貌分析43-44
- 4.2 包埋渗中气体平衡分压计算44-45
- 4.3 涂层截面形貌及相结构分析45-52
- 4.3.1 B 含量对涂层组织形貌与相结构的影响45-50
- 4.3.2 温度对涂层组织形貌与相的影响50-52
- 4.4 Mo-Si-B 涂层生长机制52-57
- 4.5 本章小结57-58
- 第五章 Mo-Si-B 涂层氧化行为研究58-70
- 5.1 氧化简介58-60
- 5.1.1 影响氧化膜抗氧化性能的因素58-59
- 5.1.2 氧化膜形成条件59-60
- 5.2 Mo-Si-B 合金的氧化行为60-62
- 5.2.1 Mo-Si-B 合金的低温氧化行为60-61
- 5.2.2 Mo-Si-B 合金的高温氧化行为61-62
- 5.3 Mo-Si-B 涂层氧化后涂层形貌及相分析62-69
- 5.3.1 Mo-Si-B 涂层氧化后表面形貌与相分析62-64
- 5.3.2 Mo-Si-B 涂层氧化后截面形貌与相分析64-69
- 5.4 本章小结69-70
- 结论70-71
- 参考文献71-78
- 攻读学位期间取得的研究成果78-79
- 致谢79
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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本文编号:331041
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