阵列基板周边设计对聚酰亚胺液扩散的影响
发布时间:2021-11-02 05:50
为提高产能,笔记本电脑超高级超维场开关(HADS)显示产品的聚酰亚胺(PI)膜涂布方式从滚筒涂布的感光树脂转印版(APR)转印变更为喷墨打印,涂布方式的变更造成了PI液滴在面板周边Vcom过孔和走线密集处扩散困难,难以扩散的PI液滴在面板边缘聚集形成周边黑线不良。首先,通过变更PVX(passivation SiNx,钝化层)掩膜版解决Vcom过孔周边PI液扩散不均问题,即通过改变面板周边过孔周期、尺寸以及距离像素区间距来减小过孔存在的影响,GP(Gate pad)侧过孔数量变为原来1/8,过孔面积比原来减小了98%,DP (Date pad)侧过孔数量变为原来的1/9,过孔面积比原来减小99%,同时DP侧过孔与像素区间距增大60%,PVX掩膜版变更极大地改善了PI液滴在过孔周围的扩散均匀性,最终周边黑线发生率从100%减小为6.6%。其次,通过变更喷墨打印涂布工艺来减小面板周边PI液积聚程度,我们开发出喷墨打印边缘补正功能,即保持像素区膜厚不变,面板边缘区域膜厚减少。边缘区域PI液的减少降低了该区域PI液积聚的可能性,...
【文章来源】:液晶与显示. 2020,35(03)北大核心CSCD
【文章页数】:6 页
【文章目录】:
1 引言
2 实验
2.1 HADS面板制备
2.2 设备与测试
3 结果与讨论
3.1 周边黑线不良分析
3.2 周边黑线不良解决方案
3.2.1 PVX掩膜版变更方案
3.2.2 喷墨打印涂布方案变更
4 结论
【参考文献】:
期刊论文
[1]周边配向膜Mura改善研究[J]. 徐长健,陆顺沙,马国靖,王丹,任锦宇,周波,宋勇志,陈维涛,冯莎. 液晶与显示. 2018(10)
[2]窄边框产品周边配向膜Mura分析及改善研究[J]. 王海成,申载官,刘萌,史秋飞,封宾,文斌. 电子世界. 2018(10)
[3]阵列基板设计对配向膜印刷的影响[J]. 赵成明,王丹,马国靖,罗会月,申载官,宋勇志. 液晶与显示. 2016(02)
[4]液晶显示器中液晶分子取向膜边缘的轮廓[J]. 范志新,潘良玉,孙玉宝,李志广. 光学技术. 2003(02)
本文编号:3471462
【文章来源】:液晶与显示. 2020,35(03)北大核心CSCD
【文章页数】:6 页
【文章目录】:
1 引言
2 实验
2.1 HADS面板制备
2.2 设备与测试
3 结果与讨论
3.1 周边黑线不良分析
3.2 周边黑线不良解决方案
3.2.1 PVX掩膜版变更方案
3.2.2 喷墨打印涂布方案变更
4 结论
【参考文献】:
期刊论文
[1]周边配向膜Mura改善研究[J]. 徐长健,陆顺沙,马国靖,王丹,任锦宇,周波,宋勇志,陈维涛,冯莎. 液晶与显示. 2018(10)
[2]窄边框产品周边配向膜Mura分析及改善研究[J]. 王海成,申载官,刘萌,史秋飞,封宾,文斌. 电子世界. 2018(10)
[3]阵列基板设计对配向膜印刷的影响[J]. 赵成明,王丹,马国靖,罗会月,申载官,宋勇志. 液晶与显示. 2016(02)
[4]液晶显示器中液晶分子取向膜边缘的轮廓[J]. 范志新,潘良玉,孙玉宝,李志广. 光学技术. 2003(02)
本文编号:3471462
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/wltx/3471462.html