离子束溅射氧化铪薄膜的能带特性

发布时间：2017-12-07 19:03

  本文关键词：离子束溅射氧化铪薄膜的能带特性

  更多相关文章： 材料 氧化铪薄膜 离子束溅射 光学带隙 调整方法

【摘要】：氧化铪是高激光损伤阈值薄膜领域内一种重要的高折射率材料,其禁带宽度和Urbach带尾宽度直接影响到薄膜的吸收和激光损伤阈值。针对离子束溅射沉积法制备的氧化铪薄膜,以基板温度、离子束电压、离子束电流和氧气流量为主要制备参数,提出了基于正交实验的光学带隙调整方法,并采用Cody-Lorentz介电常数模型表征了薄膜的禁带宽度和带尾宽度。研究结果表明,当置信概率为90%时,在影响氧化铪薄膜禁带宽度的制备因素中,影响权重从大到小依次为基板温度、离子束电流和氧气流量,采用低基板温度、中等离子束电流和低氧气流量制备参数组合,可以获得高禁带宽度的氧化铪薄膜;对带尾宽度影响最大的制备参数是基板温度,其他参数影响不显著,在高基板温度下可以获得较低的带尾宽度,这表明氧化铪薄膜的无序度较低。
【作者单位】： 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室;哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国防科技重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(61405145,61235011) 天津市自然科学重点基金(15JCZDJC31900) 中国博士后科学基金(2014 M560104,2015T80115)
【分类号】：O484
【正文快照】： 2哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国防科技重点实验室,黑龙江哈尔滨1500800231001-1氧化铪(HfO2)是紫外到近红外波段重要的高折射率材料之一,具有较高的禁带宽度和高激光损伤阈值,且耐腐蚀、易于制备,在激光光学薄膜尤其是在高损伤阈值激光薄膜技术领域具有广泛

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7 金成刚;吴雪梅;诸葛兰剑;;双离子束溅射室温沉积生长SiC薄膜[A];第十三届全国等离子体科学技术会议论文集[C];2007年

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