化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

发布时间：2017-12-15 09:22

  本文关键词：化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

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【摘要】：化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。
【作者单位】： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;中国工程物理研究院研究生院;北京科技大学数理学院;
【基金】：国家自然科学基金重点项目(51535003);国家自然科学基金青年科学基金项目(11404301,61405180)
【分类号】：TQ127.2;TN24
【正文快照】： 熔石英光学元件是高功率激光装置终端光学组件中的重要元件之一,高通量紫外激光辐照易导致光学元件损伤,熔石英光学元件的激光损伤问题是制约目前高功率激光装置发展的技术瓶颈之一,是影响其长期稳定运行的关键挑战[1]。改善熔石英光学元件的抗激光损伤性能,延长其使用寿命是

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