斜入射微结构高度误差的优化设计

发布时间：2018-02-15 08:06

  本文关键词： 衍射 衍射光学元件 衍射效率 微结构高度误差　出处：《激光与光电子学进展》2017年06期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：基于衍射效率与入射角度的表达式和正入射时微结构高度误差与衍射效率的表达式,建立了斜入射时衍射光学元件(DOEs)的微结构高度误差与衍射效率和带宽积分平均衍射效率(PIDE)的数学关系。当相对微结构高度误差的绝对值相等时,负相对微结构高度误差高于正相对微结构高度误差对应的衍射效率和带宽积分平均衍射效率。该分析方法和结论为衍射光学元件的微结构高度加工公差的制定提供了理论参考。
[Abstract]:Based on the expression of diffraction efficiency and incidence angle, and the expression of height error of microstructure and diffraction efficiency under normal incidence, The mathematical relation between the height error of microstructure and the diffraction efficiency and the average diffraction efficiency of bandwidth integral is established. When the absolute value of the relative height error of microstructure is equal, The negative relative microstructural height error is higher than the diffraction efficiency and the bandwidth integral average diffraction efficiency corresponding to the positive relative microstructural height error. The analytical method and conclusion provide a theoretical reference for the formulation of the microstructural height machining tolerance of diffractive optical elements.
【作者单位】： 盐城师范学院新能源与电子工程学院;
【基金】：国家自然科学基金(11604289) 江苏省高校自然科学研究基金(16KJD140001)
【分类号】：O436.1

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本文编号：1512816